AFM Electrical characterization
ResiScopeTM II是一个具有高灵敏度和高分辨率的独特系统，能够测量的电阻范围超过10个数量级。它可以与多种动态力模式相结合如MFM/EFM或单通KFM，在同一扫描区域内测量多种样品表征。测量方法是通过在样品和导电的AFM探针之间施加一个直流偏置（针尖接虚拟地）。针尖是以接触模式扫描，利用激光偏转信号作为AFM反馈。作为一个独立的测量功能，ResiScopeTM II是通过高性能的放大器（HPA）来测量样品电阻值的。样品是由探针以接触模式扫描，利用激光偏转信号作为AFM反馈。
柔软样品 可再生能源 半导体 材料
电阻测量
电流测量（&IV曲线）
兼容
– 振荡模式（轻敲/交流模式）
– EFM / MFM或单通KFM
100欧姆到1T欧姆（10个数量级动态）
输出信息 : R, Log R, 电流&I/V 曲线
在测量过程中，DSP实时选择最佳增益通过放大器模块（HPA）来优化测量。这种操作条件以一个固定的扫描速度（AFM），在所有的电阻率范围之内提供了一个非常高的灵敏度。与其他技术相反，探针和样品之间的电流大大降低。这限制了氧化或电化学反应带来的影响，保护了导电探针免于高电流的损坏。
ResiScopeTMII在合理范围内是智能实时控制的，以此获得最佳的测量（灵敏度和范围）。它限制了通过针尖和样品的电流，以防止任何损坏。这比一个简单的线性或对数放大器用于基本的电流测量要好很多。
| Resistance range | 10² Ω to 10^12 Ω |
| Current range (ResiScope mode) | 50 fA to 100 mA |
| AFM compatibility | CSInstruments : Nano-Observer UHV : please contact us |
| Compatible AFM mode | Contact / Tapping / AC mode EFM / MFM / KFM single-pass |
| Operating Environment | Windows® XP. 7, 8, 10, 11, SP3 Framework DotNet 3.5 SP1 One USB port available |
| Power Supply | AC 100‐240V 47‐63Hz, 1A The appliance must be properly grounded. |
| Weight (net) | 2kg |
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